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UV光清洗简介

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UV光清洗简介

发布日期:2019-11-02 作者: 点击:

      UV紫外光表面清洗机可用于LCD、OLED显示屏生产,及半导体硅晶片、光学玻璃、石英晶体、膜块、磁头、集成电路、敷铜箔层压板、高精度印制电路板以及金属、橡胶、塑料等生产中对各种表面进行光清洗或光改质处理。经清华大学化学系分析中心俄歇电子能谱仪检测,对ITO玻璃基片进行光清洗后,达到了原子清洁度。
1.光电子产品的高性能、微型化要求表面洁净度越来越高,常规的清洗方法(如水洗、化学溶液洗、超声波清洗等)已不能满足要求,UV光清洗能够达到常规的清洗方法难以达到的高清洁度,而且不存在三废处理问题,有利于环境保护。
2. 光清洗是在常温、常压的环境中进行的,是一种非接触式的干法清洗技术。被清洗的表面除了光子,不与任何物体发生接触,有机物经过紫外光照射发生光敏氧化反应后,生成可挥发性气体(CO2、CO、H2O等)从表面消散,随着排风系统抽走,不可能重返被清洗的表面,不会像溶液清洗时发生二次污染。
3. 一般情况下,光清洗的表面不会受到损伤,由于光子的能量相对比氩等离子体溅射或惰性气体离子轰击的能量。馇逑春蟮谋砻娌换崾艿剿鹕嘶蚍⑸迦毕莸南窒。
4.光清洗对物体表面微细部位(如孔穴、微细沟槽等)具有有效而彻底的清洗效果。由于紫外光是纳米短波紫外线,能够射入材料表面的极为细微的部位,发生光敏氧化反应,充分表现出光清洗的彻底性。
      紫外光表面清洗和改质的工作原理
      低压紫外汞灯发射的双波段短波紫外光照射到试件表面后,与有机污染物发生光敏氧化作用,不仅能去除污染物而且能改善表面的性能,从而提高物体表面的浸润性和粘合强度,或者使材料表面得到稳定的表面性能。根据不同需要,既可以对物体进行紫外光表面清洗,也可以进行紫外光表面改质(或叫表面改善),紫外光表面清洗和改质的机理有相同点,但也有区别。
      紫外光清洗工作原理
      VUV低压紫外汞灯能同时发射波长254nm和185nm的紫外光,这两种波长的光子能量可以直接打开和切断有机物分子中的共价键,使有机物分子活化,分解成离子、游离态原子、受激分子等。与此同时,185nm波长紫外光的光能量能将空气中的氧气(O2)分解成臭氧(O3);而254nm波长的紫外光的光能量能将O3分解成O2和活性氧(O),这个光敏氧化反应过程是连续进行的,在这两种短波紫外光的照射下,臭氧会不断的生成和分解,活性氧原子就会不断的生成,而且越来越多,由于活性氧原子(O)有强烈的氧化作用,与活化了的有机物(即碳氢化合物)分子发生氧化反应,生成挥发性气体(如CO2,CO,H2O,NO等)逸出物体表面,从而彻底清除了粘附在物体表面上的有机污染物。

      紫外光改质工作原理
      低压紫外汞灯发射的185nm和254nm波长的紫外光除有清洗去除物体表面的有机污染物的功能外,而且还能够进行表面改质。其基本原理为:光子能量把物体的表层分子键打开的同时拉出H原子和C原子,与空气中的氧气分解出来的活性氧(O)生成极性很强的原子团(OH,CHO,COOH)即羟基等活性基,同时材料表面有机污染物的清洗效果显著,活化的基体表面具有良好的粘合力和键合特性,这些羟基和涂料、粘合剂、电镀材料相结合,形成新的化学键,从而使材料表面得到通常情况下得不到的很强的粘结强度,或者使材料得到稳定的表面性能。

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